Mark II 特点

J.A.Woollam 的 IR-VASE 于 1998 发布，并经历了多年的持续改进。它被公认为最早的红外薄膜表征工具。在 15 年多的时间之后，IRVASE 已全方位升级。
全新的 Mark II 大小只是其前身的一半，它需要更少的台式空间和更少的洁净气体。FTIR 内部的硅碳棒光源和扫描激光器使用了更长寿命的设计，减少了维护的需求。MarkII 也更容易维护和保养。性能优势包括较短的光路长度和较小的测量光斑尺寸。Mark II 获得了比以前更准确和更高重复性的数据。IR-VASE Mark II 仍然能够在反射或透射模式下测量椭偏和强度数据，并且与低温保持器、加热台等常用 IR-VASE 配件兼容。

IR-VASE Mark II 规格

光谱范围

◎ 1.7μm 到 30μm (333cm-1 to 5900cm-1)

变角范围

◎标准 32°到 90°

系统总览

◎旋转补偿专利椭偏技术，傅里叶变换法同时采集数数据 (FTIR)。

真空吸附垂直样品台，满足各类不同的样品需求。

数据采集速度

◎典型值 1 到 30 分钟 (1 个入射角，16cm-1 分辨率 )

* 高分辨需要更长的测试时间

宽光谱范围

覆盖近红外到远红外 :

1.7 到 30 微米 (333 到 5900 波数 ) 分辨率

从 1 到 64 cm-1 用户自定义

对膜厚厚度、包括超薄薄膜的超高灵敏度

光谱椭偏数据同时包含了反射或透射光的“相位”和“振幅”信息。相对于 FTIR 的反射 / 吸收，IR 椭偏数据在仅几纳米厚的超薄薄膜上具有更高的灵敏度，同时保留了对化学成分的灵敏度。

产品性能

IR-VASE® 同时具备化学敏感性和光谱椭偏术的薄膜敏感性，是第一款结合了 FTIR 的光谱椭偏仪。IR-VASE 覆盖了从 1.7 到 30 微米（333 到 5900 波数）的宽光谱范围。它在科研领域以及工业应用领域用于表征薄膜或块材的材料特性。这个快速发展的技术被应用于光学镀膜、半导体、生物学和化学工业，同样也应用于实验室研究。IR-VASE 经常用来表征 :

◎块状基底 ◎声子吸收－晶体材料

◎光学常数 (n 和 k , ε1 和 ε2) ◎表面和界面层

◎薄膜厚度 ( 单层和多层膜 ) ◎掺杂浓度 ( 电阻 )

◎材料组分 ( 合金成分 )

◎自由载流子吸收

◎化学键－分子振动

◎各向异性 - 单光轴和双光轴

附件

样品移动

• 45mm × 45mm XY ( 手动 )

标准加热台选件

• 温度范围 : 室温至 300° C。 • 无主动冷却。
• 样品尺寸 : 最大直径 50 mm 、厚度 7.6 mm 。
• 包括温度控制器及内置于样品台卡盘上的热电 偶，用以监测样品温度。
• 加盖子时入射角为 70°，不加盖子时可变角测量。
• 带有光学窗口的盖子可样品净化保护。标准窗口材料为 ZnSe，加盖后测量光谱范

围的上限约 16-22 微米。

低温保持器选件

宽温度范围 :

o 标准 : 4.2-500K o 可选 : 4.2-800K

• 样品尺寸 : 最大 25 x 25 mm • 用户自备液氦 (4.2K) 或液氮 (77K) 以及低温杜瓦瓶。
• 包含特殊设计的超高真空腔室（UHV)、样品架、低 温保持器、涡轮真空泵、温度控制器、定制台及管理温度控制和椭偏数据采集的软件。
• 低温保持器的窗口允许 70° 的反射或 0°透射测量， 标准窗口材料为 ZnSe, 测量光谱范围的上限约 16-22 微米。

IR-VASE 应用

光学镀膜

◎表征单层或多层膜的膜厚和红外光学常数。包括未镀膜基底，红外光学系统，减反膜，高反膜，单层和多层的镀膜，高折射率和低折射率。

多层膜表征

◎利用 IR-VASE®. 的宽光谱范围和可变角的能力可以深入的研究多层膜。多角度测量可以改变光在各层中的行程，这样可以提供更多的信息。下面的结果显示了 4 层膜上的灵敏性。层与层之间的折射率和吸收的不同使得每一层的膜厚都可以准确测量。

通过分子键振动吸收来测定化学成分

◎就像标准的 FTIR 光谱，IR 椭偏术通过测量振动吸收获取分子键的信息。红外波段中的这些由振动引起的吸收可用来研究块材或薄膜材料。红外椭偏术比 FTIR 光谱的灵敏度更高。它能同时获取 n和 k 值而不仅仅是吸收率。下图显示测量的一个带有振动吸收的硅薄膜的光学常数。

外延层，掺杂浓度和掺杂剖面

◎在红外波段，基于自由载流子浓度的不同，可以实现外延层或植入层跟下面的基底的光学对比。